Фізико-технологічні основи металізації інтегральних схем - Курсовая работа (Теория) по физике
Тезисы:
- Розділ 3. Методи Металізації Інтегральних Схем.
- В даній курсовій роботі розглянуто компоненти та елементи інтегральних мікросхем.
- Розділ 1. Елементи І Компоненти Інтегральних Мікросхем.
- Підкладки інтегральних схем.
- Розділ 2. Технологія Виробництва Інтегральних Мікросхем.
- З курсу "Технологічні основи електроніки".
- На основі керметів, до складу яких входять хром і монооксид кремнію, отримують високоомні резистори.
- Не дивлячись на недоліки масковий метод є найпростішим, технологічнішим і високопродуктивним.
- У основі електрохімічного осадження лежить електроліз розчину, що містить іони необхідних домішок.
- Малышев И.А. "Технология производства интегральных микросхем".
Предметы
Все предметы »
Актуальные Курсовые работы (Теория) по физике
- Жидкие кристаллы; их свойства и применение
627 Кб, 45 стр
36
- Ремонт и обслуживание устройств релейной защиты
128 Кб, 29 стр
27
- Электрооборудование и схема управления погружными насосами ЭЦВ-8
117 Кб, 44 стр
24
- Технология технического обслуживания и ремонта автоматических аппаратов защиты
741 Кб, 31 стр
24
- Расчет парогенератора ПГВ-1000
54 Кб, 38 стр
24
- Электроснабжение жилого дома
370 Кб, 25 стр
23
- Система автоматизации парового котла ДКВР 10/13
288 Кб, 30 стр
23
- Электроснабжение и электрооборудование механосборочного цеха
255 Кб, 46 стр
22
- Теплотехнический контроль котлоагрегата Е-320-140
50 Кб, 32 стр
22
- Электроснабжение жилого микрорайона
138 Кб, 31 стр
21
- Показать еще »