Фізико-технологічні основи металізації інтегральних схем - Курсовая работа (Теория) по физике

 

Тезисы:

  • Розділ 3. Методи Металізації Інтегральних Схем.
  • В даній курсовій роботі розглянуто компоненти та елементи інтегральних мікросхем.
  • Розділ 1. Елементи І Компоненти Інтегральних Мікросхем.
  • Підкладки інтегральних схем.
  • Розділ 2. Технологія Виробництва Інтегральних Мікросхем.
  • З курсу "Технологічні основи електроніки".
  • На основі керметів, до складу яких входять хром і монооксид кремнію, отримують високоомні резистори.
  • Не дивлячись на недоліки масковий метод є найпростішим, технологічнішим і високопродуктивним.
  • У основі електрохімічного осадження лежить електроліз розчину, що містить іони необхідних домішок.
  • Малышев И.А. "Технология производства интегральных микросхем".
Читать онлайнСкачать курсовую работу (Теория)

 

 

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные Курсовые работы (Теория) по физике