Фізико–технологічні основи фотолітографії - Курсовая работа (Теория) по физике

Тезисы:

Детальний огляд наукової літератури по темі "Фізико-технологічні основи фотолітографії".
Основна проблема цього методу фотолітографії - адгезія матеріалу, що осаджується на підкладку.
Також важливою компонентою фотолітографії є фоторезист.
Поліефірна основа також збільшуватиме свої розміри при мокрій обробці в результаті абсорбції вологи.
С речовини основного характеру, наприклад, сечовину або її похідні.
Розмір фотоплівок змінюється із-за старіння основи, але величина цих змін є дуже незначною.
Поліефірна основа може змінити розміри в межах ±0,01% за 5-10 років.
Чим складніший виріб, тим важливіша роль фотолітографії.
Особливо це відноситься до застосовуваної в даний час контактної фотолітографії.
Причини, що приводять до порушення якості фотолітографії, можна розбити на наступні.

Предметы

Актуальные Курсовые работы (Теория) по физике