Фізико–технологічні основи фотолітографії - курсовая работа (Теория) по физике

 

Тезисы:

  • Детальний огляд наукової літератури по темі "Фізико-технологічні основи фотолітографії".
  • Основна проблема цього методу фотолітографії - адгезія матеріалу, що осаджується на підкладку.
  • Також важливою компонентою фотолітографії є фоторезист.
  • Поліефірна основа також збільшуватиме свої розміри при мокрій обробці в результаті абсорбції вологи.
  • С речовини основного характеру, наприклад, сечовину або її похідні.
  • Розмір фотоплівок змінюється із-за старіння основи, але величина цих змін є дуже незначною.
  • Поліефірна основа може змінити розміри в межах ±0,01% за 5-10 років.
  • Чим складніший виріб, тим важливіша роль фотолітографії.
  • Особливо це відноситься до застосовуваної в даний час контактної фотолітографії.
  • Причини, що приводять до порушення якості фотолітографії, можна розбити на наступні.

 

 

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные курсовые работы (теория) по физике