Основы фотолитографического процесса - реферат по информатике и телекоммуникациям

 

Тезисы:

  • Организация производства фотолитографического процесса.
  • 1 показано схематическое изображение литографического процесса.
  • Процесс испарения растворителя играет важную роль в образовании пленки.
  • Хорошо приспособлены к автоматизация массовые процессы - проявление, промывка, сушка.
  • Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров.
  • Формирование слоя фоторезиста.
  • По способу образования рельефа фоторезисты удобно делить на два класса: негативные и позитивные.
  • Различия в поведении фоторезистов обоих классов показаны на рис.
  • 1-1. Негативные фоторезисты под действием актиничного излучения образуют защитные участки рельефа.
  • Фотохимическая активация, может быть прямой и сенсибилизированной.
Читать онлайнСкачать реферат

 

 

Похожие работы:

Еще похожие работы

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные рефераты по информатике и телекоммуникациям