Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин - реферат по химии

  • Тип: Реферат
  • Предмет: Химия
  • Все рефераты по химии »
  • Язык:
  • Автор: А.О. Э.
  • Программа: Microsoft Word 8.0
  • Дата: 9 июн 2020
  • Формат: DOC
  • Размер: 812 Кб
  • Страниц: 20
  • Слов: 4206
  • Букв: 31207
  • Просмотров за сегодня: 1
  • За 2 недели: 3
  • За все время: 386

 

Тезисы:

  • Этим объясняются высокие адсорбционные свойства и химическая активность поверхности пластин.
  • Очистка, при которой удаляется приповерхностный слой пластины или подложки, называется травлением.
  • Способы сухой очистки пластин и подложек.
  • Способы сухой очистки пластин и подложек 15.
  • Газы, адсорбированные поверхностью пластин и подложек.
  • На поверхности пластин и подложек одновременно могут присутствовать загрязнения различных видов.
  • Сухая очистка основана на использовании отжига, газового, ионного и плазмохимического травления.
  • Различают химическое и электрохимическое травление полупроводников.
  • Плазмохимическое травление применяют также для локальной обработки поверхностей.
  • Типовые процессы очистки пластин и подложек.
Читать онлайнСкачать реферат

 

 

Похожие работы:

Еще похожие работы

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные рефераты по химии