Травление п/п ИМС - доклад по электротехнике

 

Тезисы:

  • Влажное травление - изотропный процесс, что приводит к формированию рисунка с наклонными стенками.
  • Влажное травление требует многоступенчатой промывки и сушки.
  • Сильное влияние на скорость травления оказывает правильный выбор реактивного газа или смеси газов.
  • Сухие плазменные процессы имеют достаточно высокие скорости травления резистов.
  • Снижение концентрации реактивного газа при завершении процесса травления.
  • Возможность травления структур с высоким отношением высоты линии к ее ширине.
  • Приведены основные плазмообразующие газы используемые для реактивного травления.
  • Материалы для которых необходимы процессы травления.
  • Анализ ключевых аспектов плазменного травления.
  • Выбор оптимальной скорости травления.

 

 

Похожие работы:

Предметы

Все предметы »

Актуальные доклады по электротехнике