Технология изготовления кристаллов полупроводниковых интегральных микросхем - курсовая работа (Теория) по информатике и телекоммуникациям

 

Тезисы:

  • Размеры кристаллов у современных полупроводниковых интегральных микросхем достигают мм.
  • Березин А.С., Мочалкина О.Р.: Технология и конструирование интегральных микросхем.
  • Черняев В. Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров: Учебник ля вузов.
  • Значимость технологии в производстве полупроводниковых приборов и ИС особенно велика.
  • Калибровка монокристаллов полупроводниковых материалов.
  • Коледов Л. А. Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок: Учебник для вузов.
  • Конструирование и технология микросхем.
  • Технология получения монокристаллического кремния.
  • Полупроводники в виде пластин или дисков, вырезанных из монокристаллов, называются подложками.
  • Высокая растворимость примесей, причем примеси несильно искажают решетку кристалла.
Читать онлайнСкачать курсовую работу (теория)

 

 

Похожие работы:

Еще похожие работы

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные курсовые работы (теория) по информатике и телекоммуникациям