Субмикронная литография - реферат по антикризисному менеджменту

 

Тезисы:

  • Перспективы развития фотолитографии.
  • Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия.
  • Процесс изготовления фотошаблонов важен для оптической литографии.
  • В настоящее время оригинал фотошаблона изготавливается методом ЭЛ-литографии.
  • Внутренние и взаимные эффекты близости являются главными проблемами систем фотолитографии.
  • Эффекты близости - основная проблема ЭЛ литографии.
  • Для того чтобы рентгеновская литография стала технологичной, нужно решить ряд важных проблем.
  • В ионно-лучевой литографии используются шаблоны типа металл на кремний или трафаретные.
  • Здесь пригодны схемы совмещения, разработанные для установок рентгеновской литографии.
  • Высокого разрешения для формирования субмикронных изображений.
Читать онлайнСкачать реферат

 

 

Похожие работы:

Еще похожие работы

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные рефераты по антикризисному менеджменту