Исследование структуры тонких полисилоксановых пленок, полученных в плазме разряда, при низких температурах - статья по химии

  • Тип: Статья
  • Предмет: Химия
  • Все статьи по химии »
  • Язык:
  • Автор: FoM
  • Дата: 24 фев 2010
  • Формат: RTF
  • Размер: 545 Кб
  • Страниц: 14
  • Слов: 2630
  • Букв: 17495
  • Просмотров за сегодня: 1
  • За 2 недели: 3
  • За все время: 379

 

Тезисы:

  • При этом полисилоксановые пленки толщиной 0,5-1 мкм оказались термически устойчивы вплоть до 500°.
  • =0. Тем не менее в ИК-спектре полисилоксановой пленки указанные полосы поглощения присутствуют.
  • ИК-спектры полисилоксановой пленки при 20 (а) , -18 (б) , -21 (в) , -23 (г) и -196° (д).
  • Отнесение максимумов "тонкой" структуры полос v.
  • Принцип работы криостата состоит в следующем.
  • Криостат крепили на зеркальной приставке и помещали в кюветное отделение спектрофотометра ИКС-22.
  • Свидетельствующие о присутствии карбоксильных и гид-роксильных групп.
  • Возникают 10 новых полос поглощения.
  • Связана с возбуждением как валентных, так и деформационных колебаний силоксанового мостика.
  • =0, ге=0, 1=0) (б) . Пояснение в тексте.

 

 

Похожие работы:

Предметы

Все предметы »

 

 

Актуальные статьи по химии