Виготовлення напівпровідникових приладів й інтегрованих схем - Курсовая работа (Теория) по прочим предметам

Тезисы:

Вони важливі для правильної інформації про якість і надійність приладів.
Воно полягає в розчиненні незадублених ділянок в розчинах, на основі яких виготовлений фоторезист.
На одній напівпровідниковій пластині діаметром 50-75 мм формується біля тисячі приладів.
Створення мікросхем починається з підготовки н/п пластин.
Курносов А.И. Материалы для полупроводниковых приборов и интегральных схем.
Конструирование и технология микросхем / Под ред.
Технологія виготовлення планарного діода.
Підготовка напівпровідникових пластин.
1 Загальна схема технологічного процесу.
Виготовлення планарний діод пластина.

Предметы

Актуальные Курсовые работы (Теория) по прочим предметам